A evolução na produção de semicondutores pode estar prestes a tomar um novo rumo graças a um desenvolvimento revolucionário de pesquisadores japoneses. Uma equipe liderada pelo professor Tsumoru Shintake do Instituto de Ciência e Tecnologia de Okinawa desenvolveu uma nova ferramenta de litografia EUV, mais simples e econômica do que os modelos atuais, que poderá tornar a fabricação de chips muito mais acessível.
O design inovador do scanner EUV apresenta um caminho óptico otimizado com apenas dois espelhos, ao contrário do sistema tradicional de seis espelhos. Esta simplificação permite que mais de 10% da energia EUV inicial atinja o wafer – uma eficácia significativamente maior que aproximadamente 1% do padrão atual.
Este avanço não apenas aumenta a eficiência da transferência de luz, mas também diminui as distorções e aberrações ópticas frequentemente associadas à luz EUV, graças a um método inédito denominado “campo de linha dupla” que ilumina a fotomáscara sem comprometer a qualidade da imagem projetada na pastilha de silício.
Além da melhoria no desempenho, uma das grandes vantagens deste novo sistema está na sua confiabilidade aprimorada e na manutenção simplificada. A nova tecnologia também se destaca por seu baixo consumo energético. Requerendo apenas 20 W de luz EUV, o sistema opera com menos de 100 kW, contrapondo-se aos mais de 1 MW necessários nos sistemas EUV convencionais. Com isso, elimina-se a necessidade de instalações de resfriamento intensivas e dispendiosas.
A confirmação do desempenho deste sistema através de software de simulação óptica reforça a possibilidade de produzir semicondutores avançados com menor custo e impacto ambiental. A patente já solicitada pelo OIST sinaliza a intenção de comercializar a tecnologia, que poderia fortalecer o crescimento do mercado global de litografia EUV, previsto para quase dobrar, de US$ 8,9 bilhões em 2024 para US$ 17,4 bilhões até 2030.
Embora ainda seja incerto o quão próxima está a comercialização desta ferramenta de litografia EUV simplificada, não há dúvidas de que o comprometimento do OIST com a aplicação prática desta inovação representa um passo essencial para superar desafios como os altos custos na produção de semicondutores e o aumento do consumo energético das fábricas.
Portanto, o cenário da fabricação de semicondutores pode estar prestes a ser transformado por esta descoberta nipônica, oferecendo tanto benefícios econômicos quanto ambientais significativos e potencialmente remodelando a indústria de tecnologia como a conhecemos.
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